Beschichten, Ätzen & Reinigen mit modernen Ionenstrahl- & Plasmaprozesssanlagen

scia Systems entwickelt und fertigt Anlagen mit komplexen Plasma- und Ionenstrahltechnologien für die ultrapräzise Oberflächenbearbeitung. Die Systeme werden für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse eingesetzt, insbesondere in der MEMS-, Mikroelektronik- und Präzisionsoptikindustrie. Aufgrund ihres flexiblen und modularen Aufbaus können die Anlagen auf kundenspezifische Anforderungen angepasst werden. So sind "Cluster"- oder "Inline"-Konfigurationen, sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienproduktion möglich. Unser breites Spektrum an Prozesstechnologien umfasst Ätzverfahren, wie Ionenstrahltrimmen, Ionenstrahlätzen und reaktives Ionenätzen, sowie Beschichtungsverfahren, wie Ionenstrahlsputtern, PECVD und Magnetronsputtern.